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UNIPOL-1000D 双盘压力研磨抛光机

应用范围:UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域,广泛使用于大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、有机高分子材料、复合材料等材料样品的自动研磨抛光,以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机设有两个研磨抛光工位,可以分别进行研磨、抛光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本机采用机械加压模式对被研磨样品加压,压力施加于载物盘的中心,使整个载物盘受力均匀。通过手触控制屏对设备进行控制,上盘可以进行顺时针旋转也可以进行逆时针旋转,下盘作顺时针旋转,通过样品盘的材质不同可以选择上盘的旋转方向。机器工作过程中噪音小,具有研磨定时功能,时间到机器自动停止,可以实现无人看守工作。

产品型号 :UNIPOL-1000D

上架时间 :2018-09-12

安装尺寸:780mm×590mm×750mm

重 量:100kg
产品简述 产品详情 产品视频 留言咨询

       UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域,广泛使用于大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、有机高分子材料、复合材料等材料样品的自动研磨抛光,以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机设有两个研磨抛光工位,可以分别进行研磨、抛光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本机采用机械加压模式对被研磨样品加压,压力施加于载物盘的中心,使整个载物盘受力均匀。通过手触控制屏对设备进行控制,上盘可以进行顺时针旋转也可以进行逆时针旋转,下盘作顺时针旋转,通过样品盘的材质不同可以选择上盘的旋转方向。机器工作过程中噪音小,具有研磨定时功能,时间到机器自动停止,可以实现无人看守工作。

 性能指标和基本配置
安装条件

● 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
● 水:设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水
● 电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
● 气:无。
● 工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
● 通风装置:不需要

主要特点

● 设有两个研磨抛光工位,可分别进行研磨、抛光操作。
● 中心加载压力,压力稳定可靠。
● 性能优良,操作简单,适用范围广。

技术参数

● 电源:220V  50Hz
● 载物盘:Ø150mm
● 桃型孔:Ø25.4mm
● 磨抛盘:Ø250mm
● 载物盘(上盘)转速:10rpm-80rpm(无级调速)
● 磨抛盘(下盘)转速:50rpm-400rpm(增量调速,最小增量10)
● 压力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg)

产品尺寸

780mm×590mm×750mm

产品重量 100kg
标准配件

1

铸铝抛光盘 2个 1
2 平载物盘 1个 1
3 桃型孔载物盘 1个 1
4 磁力片 4片 1
5 研抛底片 6片 1
6 砂纸(240#、400#、800#、1500#) 各2片 1
7 抛光垫(磨砂革、合成革、聚氨酯) 各2片 1
8 金刚石抛光膏(W2.5) 1支 1
可选配件

● SKZD-2滴料器
● SKZD-3滴料器
● SKZD-4自动滴料器
● YJXZ-12搅拌循环泵
● 精密测厚仪
● GPC-50A精密磨抛控制仪
● 陶瓷研磨盘
● 玻璃研磨盘

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